半導(dǎo)體超純水設(shè)備水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm


半導(dǎo)體超純水設(shè)備用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
 

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 半導(dǎo)體（semiconductor），指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。鍺和硅是最常用的元素半導(dǎo)體；除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機半導(dǎo)體等。


新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。

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我們公司專業(yè)生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設(shè)備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗，做過各行業(yè)的水處理設(shè)備，水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗。鸞江水處理公司產(chǎn)品具備性能好、價格低于國外同類產(chǎn)品價格、供貨及時、售后服務(wù)方便快捷等優(yōu)勢。歡迎咨詢半導(dǎo)體超純水設(shè)備、超純水設(shè)備。

半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝：超純水設(shè)備,深圳多晶硅超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備


  1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)


  2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(最新工藝)


  3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(最新工藝)


  4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(最新工藝)

 半導(dǎo)體超純水設(shè)水質(zhì)標準：


  半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標準、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。

半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：   

電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；  超純水設(shè)備,多晶硅超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備

 

電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水；   

黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；  

生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；   

晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；  

集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；  

半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；   

半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；

高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)；    

汽車、家電表面拋光處理。